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芯片制造是重中之重，但我国发展略慢

虽然华为会设计芯片，但归根结底，华为问题的最大根源在于芯片制造。在目前的行业中，芯片制造主要依赖两家公司，一家是台积电，另一家是三星。虽然我国在这方面也有一定的技术，但是实力上跟台积电还是有很大差距的。最重要的是，目前台积电和三星已经在5nm、4nm等技术发展，而我国还停留在14nm，7nm制造成了问题。

造成这种情况的主要原因是我国无法进口EUV光刻机。因为传统的DUV光刻机无法制造7nm及以上的芯片产品，如果要打造先进技术，只能选择EUV光刻机。但由于各种因素的限制，相关设备长期无法采购，直接导致我国芯片制造进展缓慢。

没想到，EUV光刻机被盯上了

近日，光刻机新规再次出炉。这条新规的出现让很多人措手不及，连台积电、三星等公司都没有想到。根据新规定，阿斯麦未来生产的EUV光刻设备不仅需要获批出货，甚至不能进入外国公司在华分支机构。这意味着国内分支机构的外国芯片公司无法购买先进的EUV光刻设备。

要知道，台积电、三星、SK等全球芯片企业在中国都有大量的分厂，甚至SK的大部分产能都是在中国完成的。这一规律的出现，无疑将直接影响到这些公司的业绩。制造进度和发展状况。因此，无论是台积电还是三星，都不能幸免于新规。

这一规律的出现，对企业的发展和我国企业的发展都是不利的。首先，对于企业来说，国内分厂无法采购先进设备，意味着这些分厂只能选择落后成熟的技术进行制造。而这也会导致一些企业选择性地出国建厂，增加建厂成本，增加风险。

其次，一旦公司离开国内市场到别处发展，将直接减缓当地的发展速度，对当地经济也是一种损失。

自主研发的光刻机在即

不难看出，新规其实是针对EUV光刻机和我国芯片发展速度的。但越是在这种情况下，光刻机的发展就越迫切。虽然我们可能无法实现所有部件的自主研发和生产，但只要对关键部件进行去美化，纯国产光刻机的制造和生产可能不是幻想。要知道，上海微电子在28nm光刻机的生产上取得了一些成绩，一些关键技术也取得了突破。只要保证这个状态，光刻机问题迟早会取得突破。